复合离子镀膜技术制备Cr+Ti+TiNC/TiNC+C/DLC膜性能研究

摘要：

将中频孪生靶非平衡磁控溅射、电弧离子镀和霍尔离子源辅助沉积三种工艺结合起来制备了Cr+Ti+TiNC/TiNC+C/DLC硬质膜.硬质膜呈深黑色,表面比较光滑,顶层为掺N的DLC,中间层为含C的TiNC,底层为含Ti和Cr的TiNC,力学性能良好.

关键词： DLC 多层膜 磁控溅射 电弧离子镀 XPS

作者: 马胜歌 于大洋 杨宏伟 张以忱

作者单位: 深圳国家863计划材料表面工程技术研究开发中心,广东,深圳,518029 东北大学,辽宁,沈阳,110004

会议类型: 国内会议

会议名称: 2006全国荷电粒子源、粒子束学术会议

会议地点: 武汉

会议语种:中文

页码: 100-105

在线出版日期: 2006-10-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）