100型MEVVA源注入机注入均匀性研究

摘要：

提高金属蒸汽真空弧(Metal vapor vacuum arc,MEVVA)离子源注入机的注入效率,大幅度降低注入成本是MEVVA源离子注入技术实用化的关键.为此开展了100型MEVVA源注入机大批量注入均匀性的研究.本文介绍了100型MEVVA源注入机的靶室结构和靶盘分布,研究了靶盘公转自转、0°定位自转、45°定位自转的注入离子浓度分布.之后通过对几种注入方式的拟合计算来确定复合注入的注入比例.最后通过实验研究了靶盘不同运动状态的复合注入,得到了相当均匀的注入效果.

关键词： 离子源注入机 金属蒸汽真空弧 离子注入 注入均匀性 定位自转

作者: 吴先映 李强 张荟星 刘安东 彭建华

作者单位: 射线束技术与材料改性教育部重点实验室,北京师范大学低能核物理研究所,100875

会议类型: 国内会议

会议名称: 2006全国荷电粒子源、粒子束学术会议

会议地点: 武汉

会议语种:中文

页码: 87-90

在线出版日期: 2006-10-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）