磁控溅射靶优化设计及其磁场分析
磁控溅射技术已发展成为工业镀膜中非常重要的一门技术.本文以实际应用为目的,针对磁控溅射系统中常见的靶材利用率低、沉积率低以及溅射率低等具体问题,对靶的结构进行了改造,包括改变极靴形状、磁体位置,加装导磁片等方法;并且选择了合适的材料进行研究.并在此基础上采用电磁场有限元的方法,模拟并分析了各种情况下靶面磁场的分布.通过分析比较最终设计出一种最适合磁控溅射的靶阴极结构.
磁控溅射 等离子体 电磁场 有限元模拟 刻蚀
刘瑞鹏 李刘合
北京航空航天大学机械工程及自动化学院,100083
国内会议
武汉
中文
313-321
2006-10-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）