碳、硅团簇离子辐照聚碳酸酯产生发色团及损伤的研究

摘要：

利用MeV碳团簇及硅团簇辐照聚碳酸酯薄膜,用光吸收谱分析400nm处产生发色团数目与团簇大小的关系,发现随团簇个数的增加发色团数目非线性增加.用ATR谱分析团簇区域内团簇离子造成聚碳酸酯的损伤,C3+离子对C=O键的损伤截面为5.56nm2.而C1+离子在误差范围内损伤截面为1.69nm2.团簇离子的集体作用的效应要大于3个单原子离子分别作用的效应.

关键词： 团簇离子 聚碳酸酯 损伤截面 薄膜

作者: 赵子强 戴俊峰 刘英民 陈燕

作者单位: 北京大学重离子物理研究所,100871,北京

会议类型: 国内会议

会议名称: 2006全国荷电粒子源、粒子束学术会议

会议地点: 武汉

会议语种:中文

页码: 64-68

在线出版日期: 2006-10-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）