全方位离子注入与沉积工业机研制

摘要：

全方位离子注入与沉积(PIIID)技术发展到现在,已经逐步走向工业化应用.本文讨论了全方位离子注入与沉积工业机应该具备的功能,介绍了我课题组最近研制了一台全方位离子注入与沉积设备的结构和实施效果,其脉冲阴极弧等离子体源沉积速率达到2.878 (A)/s,IGBT固体开关调制器输出电压达到10kV,能够一次处理多个工业零件.

关键词： 离子注入 沉积 工业机 等离子体

作者: 汤宝寅 王浪平 王小峰

作者单位: 哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室,150001

会议类型: 国内会议

会议名称: 2006全国荷电粒子源、粒子束学术会议

会议地点: 武汉

会议语种:中文

页码: 40-43

在线出版日期: 2006-10-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）