聚硅氮烷裂解过程中结构变化的研究

采用红外光谱研究了聚硅氮烷(PSZ)裂解过程中的结构变化.结果表明,温度为110℃时在PSZ中加入一定量的引发剂,发生N-H键的间脱氨缩合反应以及C=C键的自由基型自聚反应,从而使N-H及C=C键含量急剧降低.当裂解温度为400℃时,试样中的C-C、Si-C及C-H键开始断裂,以自由基历程向无机物转化,并产生H2及CH4气体.当裂解温度为800℃时,样品已基本被无机化.
聚硅氮烷 裂解机理 红外光谱 引发剂 自聚反应 无机物转化
邱海鹏 孙明 韩立军
北京航空制造工程研究所,北京,100024
国内会议
湖北宜昌
中文
531-533
2006-10-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)