大圆片上精细图形多层难熔金属刻蚀技术研究
本文分析了用反应离子刻蚀系统(RIE)刻蚀多层难熔金属的可行性,研究了用下电极表面材料为阳极氧化铝的RIE连续刻蚀Au、Pt、W、Ti四层难熔金属的刻蚀技术.通过实验证明了阳极氧化铝经氩离子轰击后,在用SF6和CF4等离子体刻蚀W、Ti过程中对聚合作用有不同程度的影响,在SF6等离子体中会加剧聚合作用,形成大量聚合物,而在CF4等离子体中则影响较小,发生的聚合作用较弱.提出了在以阳极氧化铝为下电极表面层的RIE中,依次用Ar、CF4和CF4+O2作刻蚀气体连续刻蚀Au、Pt、W、Ti四层金属的新刻蚀技术,较好地实现了大圆片上具有亚微米图形Au、Pt、W、Ti四层结构的难熔金属电极刻蚀.
RIE 多层难熔金属 阳极氧化铝 聚合作用 大圆片
段雪 邓建国 刘英坤 王书明 苏丽娟 韩东 林率兵
中国电子科技集团公司第十三研究所,石家庄,050051
国内会议
长沙
中文
354-359
2005-12-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）