北京同步辐射LIGA技术深度光刻技术研究

摘要：

深度光刻技术是LIGA技术的关键和核心,该技术的研究是一个综合过程,包括光源性能,曝光设备性能,光刻胶性能,显影技术等多方面的影响.本文通过对光源性能的研究和光刻胶性能的研究,探讨北京同步辐射深度光刻的潜能,挖掘出LIGA技术的深度光刻能力,满足各方面对LIGA技术的需要.

关键词： LIGA技术 MEMS 同步辐射光刻 微细加工

作者: 伊福廷 张菊芳

作者单位: 中科院高能物理研究所,100039

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十三届全国电子束、离子束、光子束学术年会

会议地点: 长沙

会议语种:中文

页码: 287-291

在线出版日期: 2005-12-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）