聚焦离子束刻蚀技术在制作检测DNA分子纳米孔中的应用
利用纳米孔研究DNA生物大分子是一个非常活跃的研究领域.由于聚焦离子束在微纳加工方面的独特优势,可以被用来加工这种纳米孔.为了控制加工的可重复性,本文对不同离子束流以及点覆盖率和点停留时间加工绝缘材料Si3N4的实验条件进行摸索,结果发现采用增强刻蚀模式的刻蚀速率最快.采用370pA的离子束流,其刻蚀速率可达0.164μm3/s.实验选取刻蚀速率适中的普通刻蚀模式进行系统研究,发现加工最大深宽比可达5以上.结合再沉积绝缘薄膜的辅助技术得到了直径为20nm的纳米孔.
聚焦离子束 纳米孔 DNA
岳双林 金爱子 顾长志
中国科学院物理研究所微加工实验室,中国北京,100080
国内会议
长沙
中文
257-262
2005-12-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）