会议专题

晶圆片温度对SIMOX SOI材料的影响

SIMOXSOI工艺中,采用可控加热器对晶圆片进行加热,可以使晶圆片在注入的整个过程中稳定在610℃(偏差±2℃).在610℃时注入形成的SOI材料较低温下注入形成的SOI材料有很大改善.

SOI材料 晶圆片温度 注入 加热器

乔狮雄 刘咸成 伍三忠 文正

中国电子科技集团公司第四十八研究所,长沙,410111

国内会议

第十三届全国电子束、离子束、光子束学术年会

长沙

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166-168

2005-12-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)