电子束掩模制造技术及其发展方向
微电子技术正向深亚微米、纳米方向发展.而电子束掩模制造技光设备由于波长短,位置控制精度高,而具备制作精确图形的优势.电子束的工作方式有两种:光栅扫描和矢量扫描.矢量扫描电子束,ZBA-23H电子束由电子光学柱、激光工件台等组成.工艺:电子束胶及有机溶剂的显影、腐蚀等.发展方向:在0.13以上,由于激光波长原因.再小的尺寸只能由电子束或与其它设备共同来制作.还得采取特殊OPC、相移技术,化学放大胶等.
电子束 掩模制造 相移掩模
彭力
无锡华润微电子有限公司掩模工厂,无锡,2041061
国内会议
长沙
中文
109-112
2005-12-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）