电子束制作高分辨率波带片
建立应用于波带片制作的微光刻图形数据模型,给出了数据量和份数的变化关系.并对于电子束制作过程中遇到的”鼓包”、数据丢失以及场拼接的情况进行了分析,最终制作出了最外环宽度是250nm的波带片.
电子束 波带片 双曝光 邻近效应
王德强 谢常青 叶甜春
中国科学院微电子研究所,微细加工与纳米技术实验室,北京市朝阳区,100029
国内会议
长沙
中文
92-97
2005-12-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
电子束 波带片 双曝光 邻近效应
王德强 谢常青 叶甜春
中国科学院微电子研究所,微细加工与纳米技术实验室,北京市朝阳区,100029
国内会议
长沙
中文
92-97
2005-12-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)