光学掩模电子束曝光过程的温升有限元模拟
本文模拟和讨论当光学掩模在电子束曝光过程中由于电子束能量沉积所引起的光刻胶及衬底的温度变化.模拟采用6英寸的石英掩模,PMMA光刻胶.从极限的情况入手,取80*80mm2的完全图形区域进行大面积曝光,此时整个掩模的温升是最大的.模拟过程中考虑光刻胶、衬底之间及与周围环境之间的热对流,不考虑光刻胶对周围环境的热辐射效果,因为实际上辐射的影响是很小的”1”.经过模拟给出了曝光过程中某些特殊点的温升.
光学掩模 电子束曝光 有限元模拟
欧毅 王冠亚
中国科学院微电子研究所,北京,100029
国内会议
长沙
中文
88-91
2005-12-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）