电子束液态曝光技术研究

摘要：

了可用于微机电系统加工的细电子束液态曝光技术.对该工艺的曝光方式、真空度需求、抗蚀剂选择以及能量和剂量需求等问题进行了研究.在此基础上,采用SDS-Ⅱ型曝光机在5×10-3Pa的系统真空度、25kV加速电压、3μC/cm2曝光剂量的条件下,成功地固化了3μm厚的环氧618液体,给出了固化图片.

关键词： MEMS 电子束 曝光 抗蚀剂 微机电系统

作者: 孔祥东 张玉林 卢文娟

作者单位: 东营职业学院科研处,山东东营,257091 山东大学控制科学与工程学院,山东济南,250061

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十三届全国电子束、离子束、光子束学术年会

会议地点: 长沙

会议语种:中文

页码: 74-80

在线出版日期: 2005-12-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）