电子束光刻常用的抗蚀剂工艺技术研究
电子束光刻技术是推动微电子和微细加工发展的关键技术,尤其在先进掩模制造和纳米加工领域中,起到不可替代的作用.为满足科研和生产的需要,我们中国科学院微电子研究所微细加工与纳米技术研究室长期以来一直开展光学光刻系统的分辨率增强技术和电子束曝光及电子束直写技术研究,取得了很好的应用效果,其中电子抗蚀剂工艺技术是实现高分辨率加工的基础.本文重点介绍电子束光刻中常用的电子抗蚀剂曝光工艺技术优化的问题.
电子束光刻 电子束直写 电子抗蚀剂 微细加工 微电子
陈宝钦 张立辉 范东升 牛洁斌 刘明 薛丽君 李金儒 汤跃科 王德强 任黎明 龙世兵 陆晶
中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成实验室,北京市朝阳区,北京,100029
国内会议
长沙
中文
50-55
2005-12-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）