快速热处理对氮化硅薄膜影响的研究

摘要：

在氢气氛中对氮化硅薄膜进行不同时间快速热处理,测其退火后的厚度、折射率、红外吸收光谱及晶向的变化.结果发现退火后氮化硅薄膜变得致密,折射率升高,抗高氧化性能提高,并且退火时间长短对这些性能的变化没有影响.

关键词： 氮化硅薄膜 快速热处理 化学气相沉积法 折射率 抗高氧化性能

作者: 马丽芬 勾宪芳 许颖 任丙彦 李守卫 王江涛 王松 魏玉明

作者单位: 北京市太阳能研究所有限公司,北京,100083 河北工业大学信息功能材料研究所,天津,300130 晶澳太阳能有限公司,河北宁晋,055550

会议类型: 国内会议

会议名称: 第九届中国太阳能光伏会议

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 684-686

在线出版日期: 2006-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）