HF/HNO3/H2O体系中硅片的腐蚀过程

摘要：

HF/HNO3/H2O体系在多晶硅太阳能电池制备中占有重要的地位.以前对于硅片在HF/HNO3/H2O体系中的反应已经做了大量的研究.本文测量了富硝酸体系中不同的时刻的腐蚀速度,腐蚀溶液的温度和溶液中的氟离子浓度,从而对腐蚀反应的过程进行了相应的分析.实验结果表明腐蚀反应速度随时间的变化是腐蚀生成热、体系与外界热交换及溶液中的氟离子浓度共同作用的结果.

关键词： 硅腐蚀 反应速度 氟离子浓度 多晶硅 太阳能电池

作者: 安静 孙铁囤 刘志刚 汪建强 苦史伟

作者单位: 上海交通大学物理系太阳能研究所,上海,200240

会议类型: 国内会议

会议名称: 第九届中国太阳能光伏会议

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 75-79

在线出版日期: 2006-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）