顺序溅射制备Cu-In-(Ga)预制层的特性研究

摘要：

本文研究了采用直流磁控顺序溅射制备的Cu-In-(Ga)预制层的材料特性.预制层制备过程中的溅射顺序、每层的厚度等因素直接影响了预制层的表面形貌、合金状况等,从而影响到硒化成膜后的薄膜质量.为了改善预制层的特性,对预制层样片进行热处理(120℃,20分钟),通过对比发现热处理使得预制层的结晶状况得到了很大改善.采用多层溅射顺序制备的预制层再经过热处理以后所得的薄膜,表面形貌和合金状况都比较好,为硒化后能够得到较好的CI(G)S薄膜奠定了基础.

关键词： 金属预制层 顺序溅射 热处理 薄膜质量 薄膜太阳电池

作者: 鞠兰 李凤岩 何青 刘芳芳 孙云

作者单位: 南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津市光电子薄膜器件与技术重点实验室,天津,300071

会议类型: 国内会议

会议名称: 第九届中国太阳能光伏会议

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 257-260

在线出版日期: 2006-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）