衬底温度对溅射后腐蚀法制备绒面ZnO透明导电膜性能的影响

摘要：

本文利用中频脉冲磁控溅射方法,采用重量2﹪的Al掺杂Zn(纯度99.99﹪)为靶材制备平面透明导电ZnO:Al薄膜,利用湿法腐蚀方法,将平面ZAO薄膜在0.5﹪的稀盐酸中浸泡一定时间后,形成表面凹凸起伏的绒面结构.研究了平面ZAO薄膜的结构特性,以及衬底温度对绒面ZAO薄膜表面形貌的影响.结果表明:高温、低功率条件下制备的绒面ZAO薄膜表面形貌较好,可用于硅基薄膜太阳电池.

关键词： 中频磁控溅射 湿法腐蚀 透明导电膜 衬底温度 薄膜太阳电池

作者: 薛俊明 黄宇 孙建 赵颖 耿新华

作者单位: 南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,南开大学光电信息技术科学教育部重点实验室,天津,300071 南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,南开大学光电信息技术科学教育部重点实验室,天津,300071;仪器科学与动态测试教育部重点实验室,中北大学电子工程系,山西太原

会议类型: 国内会议

会议名称: 第九届中国太阳能光伏会议

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 211-214

在线出版日期: 2006-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）