氢稀释度对氢化非晶硅膜的影响

摘要：

在石英玻璃和单晶硅衬底上用PECVD制备氢稀释系列的氢化非晶硅膜.通过测定薄膜的透射谱计算得到薄膜厚度从而计算沉积速率.薄膜晶态比Xc通过Raman光谱解谱得到.通过傅立叶变换红外吸收谱(FTIR)研究薄膜中成键情况以及是否有氧、碳等杂质污染,并计算得到薄膜的微结构因子R*和H含量CH.在真空中测量薄膜的室温暗电导σd和光电导σp(100mW/cm2).测量薄膜的光热偏转谱(PDS),通过PDS吸收谱的次能带吸收系数α来表征薄膜的质量.

关键词： 石英玻璃 氢稀释系列 氢化非晶硅膜

作者: 王敏花 刘晓平 李彦林 羊建坤 任丙彦 许颖 李海玲 王文静

作者单位: 河北工业大学信息功能材料研究所,天津,300130;北京太阳能研究所光电室,北京,100083 河北工业大学信息功能材料研究所,天津,300130 北京太阳能研究所光电室,北京,100083 中国科学院电工研究所,北京,100083

会议类型: 国内会议

会议名称: 第九届中国太阳能光伏会议

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 157-160

在线出版日期: 2006-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）