Cu-Al合金粉末直接氧化法制备弥散铜氧源的新工艺
在研究内氧化法制备Al2O3弥散强化铜基复合材料的基础上提出了Cu-Al合金粉末直接氧化法制备弥散铜氧源的新工艺,制备了Cu-0.1Al和Cu-0.2Al两种合金粉末的氧源,并采用该氧源进行了内氧化试验.结果表明:采用该氧源制备的弥散铜性能优越,该工艺可通过控制氧源制备过程中的加热温度和时间来调整氧源的含量,以达到更好地控制内氧化和还原工艺参数的目的,工艺过程简单,生产成本低.采用2~3mol/L的HCl溶液作溶剂,水浴浸取15min,可以实现氧源中金属铜的分离和测定.
直接氧化法 弥散铜氧源 内氧化工艺 合金粉末 还原工艺 铜基复合材料
国秀花 宋克兴 郜建新 林阳明
河南科技大学
国内会议
第十一届全国特种铸造及有色合金学术年会、第五届全国铸造复合材料学术年会、第十二届全国铸钢及熔炼学术年会暨中国有色金属加工工业协会重有色分会技术交流会
郑州
中文
146-147
2006-08-12(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)