微加工薄膜变形镜电压解耦

摘要：

针对微加工薄膜变形镜的交连值很大而且存在多级交连的特性,通过对连续面形变形镜拟合像差原理的理论分析,根据最小二乘原则,以模式法建立了微加工薄膜变形镜的电压解耦模型.测量并用高斯函数拟合了微加工薄膜变形镜的面形影响函数,计算出高斯指数、特征宽度和交连值分布.依据模式法电压解耦模型,实现对前10阶Zernike多项式的拟合并分析了拟合残差.结果表明,模式法可以作为微加工薄膜变形镜的电压解耦模型.为搭建基于微加工薄膜变形镜的自适应光学系统提供了算法支持.

关键词： 自适应光学 微加工薄膜变形镜 电压解耦 模式法

作者: 李恩德 戴云 史国华

作者单位: 中国科学院光电技术研究所,四川,成都,610209;中国科学院研究生院,北京,100039 中国科学院光电技术研究所,四川,成都,610209

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十七届全国激光学术会议

会议地点: 四川绵阳

会议语种:中文

页码: 427-431

在线出版日期: 2005-10-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）