新型自增感负性光敏聚酰亚胺

摘要：

本文将具有光敏性的二胺和丙烯酸酯类基团引入到聚酰亚胺链中，制备出了自增感负性光敏聚酰亚胺，同时研究这种光敏聚酰亚胺光刻性能。

关键词： 聚酰亚胺 光刻性能 光敏性

作者: 姜学松 李浩 王宏宇 史子兴 印杰

作者单位: 上海交通大学化学化工学院,上海,200240

会议类型: 国内会议

会议名称: 2006年全国高分子材料科学与工程研讨会

会议地点: 四川绵阳

会议语种:中文

页码: 368-369

在线出版日期: 2006-10-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）