基体清洗法测定CeO2在载体γ-Al2O3表面的分散阀值

摘要：

CeO2在γ-Al2O3载体表面分散阀值的确定对于提高CeO2的利用率具有重要的现实意义.用浸渍法制备了CeO2/γ-Al2O3催化剂,XRD分析表明随着负载量的增加,CeO2的衍射峰强度也随之增加.选取衍射峰不与CeO2衍射峰重叠且具有良好的稳定性的NiO作为参比物质,用基体清洗法计算CeO2的单层分散阀值为0.125 g/g(γ-Al2O3),浸渍时间影响单层分散阀值的大小.

关键词： CeO2 单分子层 基体清洗法 抛光剂 催化剂

作者: 郁青春 张世超 王新东

作者单位: 北京科技大学冶金与生态学院,北京,100083 北京航空航天大学材料学院,北京,100083

会议类型: 国内会议

会议名称: 2006年全国冶金物理化学学术会议

会议地点: 济南

会议语种:中文

页码: 329-331

在线出版日期: 2006-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）