会议专题

双会切磁场大回旋电子注的产生

研究了双会切磁场中大回旋电子注产生的机理.通过拉格朗日方程求解了电子注的运动方程及沿轴的角向速度、引导中心半径、拉莫尔半径等参量表达式.分析了双会切磁场中电子注参量的影响因素,得到了用于改进双磁会切电子枪性能的一般性结论。

大回旋电子注 双会切磁场 拉格朗日方程 拉莫尔半径 电子枪

邹峰 薛谦忠 刘濮鲲

中国科学院电子学研究所,北京,100080;中国科学院研究生院,北京,100039 中国科学院电子学研究所,北京,100080

国内会议

第九届真空技术应用学术年会

四川绵阳

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197-200

2006-09-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)