N-β-氨乙基-γ-氨丙基聚二甲基聚二苯基硅氧烷的膜形貌及其XPS分析
利用D4与氨基硅单体以及二苯基二甲氧基硅烷等的聚合反应,合成了一种N-β-氨乙基-γ-氨丙基聚二甲基聚二苯基硅氧烷(PASO),在FT-IR、UV和1H-NMR对确认其结构的基础上,重点用原子力显微镜AFM、光电子能谱XPS等仪器对PASO膜形貌以及性质进行了研究.XPS分析和接触角测量结果表明,在单晶硅基质上PASO形成的硅膜疏水,水的接触角可达到了94.99°,而且该膜在结合能284.7、399.8、532.2和99.4eV分别出现了Cls、N1s、O1s和Si2p的俄歇动能峰.而AFM测定结果可见,在2μm2扫描范围以及观察标尺为3nm的条件下,PASO定向排列形成的硅膜,略显粗糙,其表面有峰状形貌存在.在2μm2扫描范围内PASO硅膜的均方根粗糙度为0.228nm。
氨基硅 苯基甲基聚硅氧烷 原子力显微术 硅膜形貌 疏水性硅膜 水接触角
安秋凤 李明涛 王前进
陕西科技大学化学与化工学院,咸阳,712081
国内会议
广州
中文
315-320
2006-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）