周期性多层膜合金化制取的Ni-Ti形状记忆薄膜的相深度分布

摘要：

本文用掠入射X射线衍射对磁控溅射制取的等原子比Ni/Ti周期性多层膜晶化热处理后的相深度分布进行了分析.Ni-Ti形状记忆薄膜在深度方向的相分布是不均匀的,表现为靠近外表面是Ti3Ni4沉淀相、马氏体相和少量奥氏体相的三相混合区,靠近基体是单一的马氏体相区,薄膜和基体发生了界面扩散与反应.周期厚度对薄膜的相深度分布有一定影响.

关键词： 相深度分布 形状记忆合金 多层膜 掠入射X射线衍射 磁控溅射

作者: 魏向军 徐清 贾全杰 王焕华

作者单位: 兰州大学物理科学与技术学院,兰州,730000;中国科学院高能物理研究所,北京,100049 中国科学院高能物理研究所,北京,100049

会议类型: 国内会议

会议名称: 北京同步辐射装置2005年学术年会暨学术委员会

会议地点: 山东青岛

会议语种:中文

页码: 40-42

在线出版日期: 2005-07-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）