掠出射X射线荧光分析方法

摘要：

本文报道了由中国科学院高能物理研究所自行研制的掠出射X射线荧光分析(GEXRF)装置.掠出射X射线荧光分析不仅可以测量薄膜的成分,而且可确定薄膜的厚度,密度和化学成分随深度的变化.利用该装置,在X射线发生器和北京同步辐射装置上,对硅基体上的金属薄膜(Ni,Ni/Ti)和砷化镓晶体进行了掠出射X射线荧光分析.所得结果表明,掠出射X射线荧光分析是一种分析薄膜厚度,密度等特性的有力工具.

关键词： 掠出射X射线荧光 仪器研制 薄膜

作者: 徐清 魏向军 黄宇营 何伟

作者单位: 中国科学院高能物理研究所,北京,100049 中国科学院高能物理研究所,北京,100049;兰州大学物理科学与技术学院,兰州,730000

会议类型: 国内会议

会议名称: 北京同步辐射装置2005年学术年会暨学术委员会

会议地点: 山东青岛

会议语种:中文

页码: 80-83

在线出版日期: 2005-07-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）