GaAs MMIC中钝化层的质量监测技术研究

摘要：

GaAs MMIC由GaAs衬底上多种材料结合构成.由于器件结构,工艺过程和材料特性等原因.在器件结构中存在一定的材料应力,应力对器件的性能、可靠性以及制造工艺成品率均有不同程度的影响.通过对GaAs MMIC钝化介质膜氮化硅的研究,分析应力的产生、组成以及影响因素,通过研究提出控制和优化器件钝化层的方法,促使器件的性能和可靠性得到改善和提高.

关键词： 化学气相沉积 单片集成电路 氮化硅薄膜 质量监测

作者: 徐筱乐 贾洁 黄云 高建峰

作者单位: 中国电子科技集团公司第五十五所,南京,210016 信息产业部电子第五研究所,广州,510610

会议类型: 国内会议

会议名称: 第六届全国毫米波亚毫米波学术会议

会议地点: 哈尔滨

会议语种:中文

页码: 281-284

在线出版日期: 2006-08-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）