离子后处理技术对氧化锆薄膜的改性

摘要：

用低能氧离子对电子束热蒸发方法沉积氧化锆薄膜进行了后处理.通过对其光学性质、抗激光辐照、弱吸收、表面粗糙度及缺陷密度等性质的表征,比较处理前后薄膜的各项性质,发现经离子后处理的氧化锆薄膜的折射率、消光系数、表面粗糙度、吸收率及缺陷密度等均有所降低,薄膜的激光损伤阈值较未处理样品有较大提高.X射线分析表明离子后处理的样品其微结构也发生微弱变化.对离子后处理技术对薄膜改性的机理进行了分析探讨。

关键词： 氧化锆薄膜 离子后处理 电子束热蒸发 光学性质 消光系数 激光损伤阈值

作者: 张东平 张大伟 范树海 赵元安 邵建达 范正修

作者单位: 中科院上海光学精密机械研究所薄膜中心,上海,201800

会议类型: 国内会议

会议名称: 2004年全国光电技术学术交流会

会议地点: 福建厦门

会议语种:中文

页码: 628-631

在线出版日期: 2004-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）