采用中频反应磁控溅射技术沉积氮化锆薄膜

摘要：

为了避免直流反应溅射出现的靶中毒和打火现象,采用中频反应磁控技术在不锈钢基体上沉积氮化锆薄膜.实验表明,当炉内氮分压为45％,控制靶电压200V,靶电流为25A,逐步调节Ar/N2比例达到要求的真空炉内气氛浓度,可获得成分均匀,膜层致密,与基体结合牢固的金黄色氮化锆薄膜.

关键词： 磁控溅射 氮化锆 不锈钢 真空炉

作者: 孙维连 杨钰瑛 李新领

作者单位: 河北农业大学机电工程学院,保定,071001

会议类型: 国内会议

会议名称: 华北地区第十六届热处理技术交流会暨河北省机械工程学会热处理分会第六届学术年会

会议地点: 河北保定

会议语种:中文

页码: 95-98

在线出版日期: 2006-07-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）