离子束清洗在激光薄膜中的应用

摘要：

用End-Hall型离子源进行了离子束清洗在激光薄膜中的应用研究.通过实验验证了基片的二次污染和离子束的清洗效果,观测了离子束清洗前后基片的表面形貌变化,研究了离子束清洗基片对基片上薄膜抗激光损伤阈值的作用.分析了离子束清洗对基片表面性质如清洁度、表面能、接触角、表面形貌的变化机理,指出杂质微粒的去除和附着力的增加的综合作用是使薄膜抗激光损伤阈值显著提高的原因。

关键词： 高功率激光薄膜 离子束清洗 离子源 损伤阈值 表面形貌

作者: 张大伟 邵建达 王英剑 范正修 范瑞瑛

作者单位: 中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800

会议类型: 国内会议

会议名称: 2004年全国光电技术学术交流会

会议地点: 福建厦门

会议语种:中文

页码: 522-525

在线出版日期: 2004-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）