改性硅基薄膜材料的系统研究

摘要：

本文在超高频PECVD系统中对一种新颖的改性硅基薄膜材料的沉积进行了详细研究.发现这种硅基薄膜可在与非晶硅完全相同的沉积系统中,仅需改变反应气源的比例及某些沉积条件即可方便得到.我们可以通过协调控制若干条件,如反应气压、功率或衬底温度,可以获得从非晶硅、纳米硅以及微晶硅等系列不同晶化率的硅基薄膜材料.本文对此进行了讨论,最后给出改性硅基薄膜TFT的示例.

关键词： 硅基薄膜 微晶硅 晶化率 改性材料

作者: 熊绍珍 李娟 张晓丹 赵颖 吴春亚 孟志国 张芳

作者单位: 南开大学光电子所,天津,300071 天津市光电子薄膜器件与技术重点实验室,天津,300071 科技部高技术研究发展中心,北京,100044

会议类型: 国内会议

会议名称: 2006中国平板显示学术会议

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 375-377

在线出版日期: 2006-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）