超平整热蒸镀金膜的制备和形貌结构表征
本文以原子级平整的云母和硅片作表面模板,用PVD热蒸镀的办法分别沉积上1.3 nm和5.0 nm的金膜.以云母和硅片为模板沉积的1.3 nm厚金膜的形貌有明显差异:前者表现为直径为～80 nm的卵石状结构,而后者呈现出直径为～50nm的较为均匀的团簇;两者均为非晶膜,其均方根粗糙度分别为0.12 nm和0.07nm.云母上沉积的5 nm厚金膜表现为紧密堆栈的团簇形貌,团簇直径为～20 nm;用谢乐方程估算的晶粒尺寸为～5 nm,与薄膜厚度相当.角分辨XPS全谱扫描结果表明所有样品的金膜覆盖率都较高,裸露区域最大线宽不大于10 nm。
金膜 制备工艺 PVD热蒸镀 单晶模板 气相沉积 择优取向薄膜
庞重军 林义民 严洁
中国科学院兰州化学物理研究所,固体润滑国家重点实验室,甘肃,兰州,730000;茂名学院,广东,茂名,525000;中国科学院研究生院,北京,100039 中国科学院兰州化学物理研究所,固体润滑国家重点实验室,甘肃,兰州,730000;中国科学院研究生院,北京,100039 中国科学院兰州化学物理研究所,固体润滑国家重点实验室,甘肃,兰州,730000
国内会议
兰州
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546-549
2006-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）