脉冲占空比变化对阴极弧制备(Ti,Al)N薄膜结构和性能的影响

摘要：

利用脉冲偏压阴极弧离子蒸发沉积技术在不同占空比条件下制备了(Ti,Al)N硬质薄膜,阴极弧TiAl合金靶的原子比为1∶1,使用XRD、显微硬度仪、纳米压痕仪以及金相显微镜观察了不同占空比对薄膜微结构、硬度及表面形貌的影响.结果表明,薄膜呈面心立方晶结构,随着占空比增大,晶胞参数和晶粒尺寸单调增大,液滴对薄膜表面形貌的影响减小,薄膜的显微硬度在40％占空比时达到最大.

关键词： 脉冲偏压 阴极弧离子蒸发沉积 占空比 N硬质薄膜 显微硬度仪 薄膜结构

作者: 刘金良 唐为国 毛延发 韩培刚 冯博学

作者单位: 兰州大学物理科学与技术学院 西安建筑科技大学 深圳广大纳米R&D中心

会议类型: 国内会议

会议名称: 第六届全国表面工程学术会议暨首届青年表面工程学术论坛

会议地点: 兰州

会议语种:中文

页码: 464-467

在线出版日期: 2006-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）