N2流量对电弧离子镀Ti1-xAlxN薄膜成分与微观结构的影响

摘要：

用电弧离子镀方法获得了Ti1-xAlxN纳米晶薄膜;考察了沉积过程中N2流量对薄膜沉积速率、化学成分、晶粒尺寸以及微观结构的影响.结果表明,制备的Ti1-xAlxN薄膜主要由游离态á-Ti和Ti1-xAlxN固溶体相组成,晶粒尺寸在12.5-18 nm之间变化.随N2流量的升高,Ti1-xAlxN薄膜的沉积速率降低;Al的相对含量x在0.15-0.20之间变化,并随N2流量的升高先增大再减小,在20sccm时Al含量取得最大值;晶面间距则是先减小后增大,在N2流量为20sccm时取得最小值;而Ti1-xAlxN薄膜的晶粒尺寸随N2流量的增加逐渐减小.

关键词： Ti1-xAlxN薄膜 硬质薄膜 电弧离子镀 微观结构

作者: 王昕 徐建华 马胜利 徐可为 阎逢元

作者单位: 西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,710049,西安 中科院兰州化物所固体润滑国家重点实验室,730000,甘肃兰州

会议类型: 国内会议

会议名称: 第六届全国表面工程学术会议暨首届青年表面工程学术论坛

会议地点: 兰州

会议语种:中文

页码: 460-463

在线出版日期: 2006-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）