a-CNxH薄膜的摩擦学性能研究
(0) 氮化碳薄膜(Carbon nitride films)是以理论预言为基础、自然界尚未发现的人工合成材料之一.由于其具有很多优异的性能而备受材料学家的青睐.非晶氮化碳(a-CNxH)薄膜是其中的一种.1990年.Muller首次报道了a-CNxH薄膜具有高的抗磨性能和极低的摩擦系数.随后十几年,人们开始对其摩擦学性能进行研究.然而,由于a-CNxH薄膜对制备工艺和沉积条件的依赖性,以及摩擦试验中所用条件的不同,所得结论不尽相同.本文用自行研制的DC-RF-PECVD制备了a-CNxH薄膜,并探讨了不同对偶材料对薄膜摩擦性能的影响. 所得a-CNxH薄膜呈金黄色,厚度约为100 nm.XPS,FTIR和Raman分析表明,薄膜中的C和N原子以C-N单键、C=N双键和C≡N三键的形式结合;此外还有C-C,C=C,C-H以及N-H键,这些键都是以共价键的形式存在,是典型的非晶含氢氮化碳薄膜。
氮化碳薄膜 非晶氮化碳薄膜 摩擦学性能 PECVD 制备工艺 沉积条件
郝俊英 刘维民
中国科学院兰州化学物理研究所,固体润滑国家重点实验室,甘肃,兰州,730000;中国科学院,北京研究生院,北京,100084 中国科学院兰州化学物理研究所,固体润滑国家重点实验室,甘肃,兰州,730000
国内会议
兰州
中文
450-451
2006-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）