Al/AlN多层膜的结构和力学性能研究
采用柱状靶直流磁控溅射制备了Al、AlN薄膜和Al/AlN多层膜.Al单组分膜呈现很强的(111)衍射峰,AlN相在单层膜中呈现(100)的择优取向,而在多层膜样品中为(002)的择优取向,同时出现Al的衍射峰,相应的衍射峰强度很弱.调制周期Λ=2nm的样品没有出现明显的小角衍射峰,说明多层结构消失.XPS结果表明多层膜比单层膜容易获得接近理想化学配比的AlN薄膜,而且抗氧化性能较优.通过增加AlN层的厚度,多层膜硬度没有明显提高;多层膜硬度在调制周期为16nm时达到极大,可达24.5GPa,出现明显的硬度增强,这种增强归因于Al和AlN的弹性模量差异.
柱状靶直流磁控溅射 Al/AlN多层膜 薄膜结构 薄膜硬度 择优取向 弹性模量
吴志国 张广安 范晓彦 王明旭 王君 闫鹏勋
兰州大学等离子体与金属材料研究所,甘肃,兰州,730000;兰州理工大学甘肃省省部共建有色金属新材料国家重点实验室,甘肃,兰州,730050 兰州大学等离子体与金属材料研究所,甘肃,兰州,730000 兰州大学等离子体与金属材料研究所,甘肃,兰州,730000;中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室,甘肃,兰州,730000
国内会议
兰州
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446-449
2006-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）