光刻工艺中预曝光技术机理分析与应用研究

摘要：

分析了预曝光技术运用机理,研究了光刻工艺中的预曝光技术.在连续型菲涅尔衍射透镜光刻工艺中,应用了预曝光技术,制作出了较为理想的连续型浮雕结构.

关键词： 光刻工艺 预曝光 曝光阈值 菲涅尔衍射透镜 连续型浮雕结构 激光直写

作者: 刘宏开 罗崇泰 王多书 陈焘

作者单位: 兰州物理研究所,表面工程国家重点实验室,兰州,730000

会议类型: 国内会议

会议名称: 第六届全国表面工程学术会议暨首届青年表面工程学术论坛

会议地点: 兰州

会议语种:中文

页码: 514-517

在线出版日期: 2006-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）