采用DC Arc plasma Jet CVD方法制备层结构的金刚石自支撑膜
采用DC Arc plasma Jet CVD方法制备了层结构的金刚石自支撑膜,层结构中的每一层都包含着微米级的柱状晶,上层的晶粒尺寸要比下层的大,并且,上下层的晶体取向也不同,上层为(111)而下层为(110).采用了Raman谱技术对晶体质量进行了评价.层结构金刚石自支撑膜的生长速度超过10μm/hr。
CVD方法 金刚石自支撑膜 晶体质量 层结构 Raman谱
陈广超 李彬 戴风伟 兰昊 J.Askri1 吕反修
北京科技大学材料学院 北京科技大学冶金与生态学院
国内会议
兰州
中文
468-469
2006-08-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)