薄膜应力研究进展
薄膜应力的形成是一个复杂的过程。一般来说薄膜应力起源于薄膜生长过程中的某种结构不完整性(如杂质、空位、晶粒边界、位错等)、表面能态的存在以及薄膜与基体界面间的晶格错配等”。在薄膜形成后，外部环境的变化同样也可能使薄膜内应力发生变化，如热退火效应，使薄膜中的原子产生重排，结构缺陷得以消除(或部分消除)，或产生相变和化学反应等，从而引起应力状态的变化。本文主要介绍了薄膜应力形成机理和应力实验的研究进展,并探讨了薄膜应力研究的发展趋势。
薄膜应力 应力形成 应力实验 薄膜生长 晶粒边界 表面能态 晶格错配
陈焘 罗崇泰
兰州物理研究所,表面工程技术国家重点实验室,兰州,730000
国内会议
兰州
中文
59-64
2006-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）