共溅射Ni/WS2/MoS2复合薄膜的微结构与性能

摘要：

利用磁控溅射制备Ni/MoS2/WS2共溅射复合薄膜,采用X射线衍射仪、X射线能谱仪和高分辨透射电镜对薄膜进行表征,并采用UMT型微摩擦磨损试验机在大气室温环境下对薄膜进行摩擦磨损性能测试,结果表明:Ni/MoS2/WS2复合薄膜(002)面优先取向生长,且磨损寿命、摩擦稳定性和抗载荷能力都比纯MoS2薄膜有很大的提高,同时摩擦系数却有很大的降低.

关键词： 磁控溅射 摩擦学性能 复合薄膜 微结构 摩擦磨损性能 固体润滑

作者: 尹桂林 黄平华 余震 何丹农 涂江平

作者单位: 上海交通大学,材料科学与工程学院,上海,200030 浙江大学,材料科学与工程系,浙江,杭州,310027

会议类型: 国内会议

会议名称: 2006全国摩擦学学术会议

会议地点: 哈尔滨

会议语种:中文

页码: 151-153

在线出版日期: 2006-07-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）