氮气分压对直流磁控溅射Ti-Si-N膜的影响

摘要：

在利用磁控溅射方法制备Ti-Si-N膜的过程中,反应气体中氮气的分压是一个重要的参数.本文采用钛-硅复合靶,在不同氮气分压下制得了一系列Ti-Si-N膜,并借助能谱仪(EDS)、X射线衍射(XRD)、纳米压入仪和划痕仪对膜层的成分、结构和力学性能进行了分析.结果表明,少量氮气的加入能制得纳米硬度高达53GPa的Ti-Si-N膜.随着氮气分压的增加,纳米硬度逐渐下降.随着氮气分压的增加,膜层中TiN相和Si3N4相的比例减小,同时,TiN晶粒的平均尺寸也逐渐减少.这两个趋势的共同作用使得Ti-Si-N膜随氮气分压的变化发生非线性的变化.

关键词： 复合膜 直流磁控溅射 氮气分压 纳米硬度 相结构 力学性能

作者: 徐晔 蔡珣 陈秋龙 沈耀

作者单位: 上海交通大学材料科学与工程学院,200240

会议类型: 国内会议

会议名称: 第九届全国典型零件热处理学术及技术交流会暨第六届全国热处理学会物理冶金学术交流会

会议地点: 安徽马鞍山

会议语种:中文

页码: 85-88

在线出版日期: 2006-08-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）