不同沉积工艺参数对YF3膜层应力的影响

摘要：

薄膜材料的选择及其膜层特性的研究,是光学薄膜技术的基础和前提.YF3硬度较高,折射率较低,是优选的红外低折射率材料,但存在成膜后膜层的应力较大的缺陷.本文通过研究镀膜过程中基片的烘烤温度、辅助离子源能量以及成膜后的热处理条件对F3膜层应力的影响,分析了YF3膜层的应力随所选定工艺参数的变化规律.

关键词： 膜层应力 红外 光学薄膜 薄膜材料 工艺参数

作者: 庄克文 季一勤 宋洪君 赵志宏 洪伟

作者单位: 天津津航技术物理研究所,天津,300192

会议类型: 国内会议

会议名称: 二〇〇六年全国光电技术学术交流会

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 179-184

在线出版日期: 2006-11-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）