沉积温度对反应电子束蒸发TiO2薄膜结构和光学性能的影响

摘要：

TiO2具有较高的折射率,在光学方面有着广泛的应用.文中采用等离子辅助反应电子束真空蒸镀法,以Ti为膜料、纯度为99.99％的O2为反应气体,在玻璃衬底上制备了TiO2薄膜.使用XRD、OM、SEM分别对50℃、150℃、300℃三个不同沉积温度下制备的薄膜及其经过450℃真空退火1h后的结构进行了分析,并对薄膜的折射率进行测量.实验结果表明,提高沉积温度可以增加成膜原子的能量及其在衬底上的扩散能力,使沉积的薄膜结构平整致密,具有较高的折射率.

关键词： TiO2薄膜 电子束蒸发 沉积温度 薄膜结构 光学性质

作者: 杨陈 樊慧庆 惠迎雪

作者单位: 西北工业大学,材料学院,西安,710072

会议类型: 国内会议

会议名称: 二〇〇六年全国光电技术学术交流会

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 175-178

在线出版日期: 2006-11-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）