直流磁控溅射制备ZnO薄膜的结构及电学性质研究

摘要：

本文采用直流反应磁控溅射方法在平面玻璃上制备了ZnO薄膜.所得的ZnO薄膜利用X光衍射,扫描电子显微镜和原子力显微镜进行分析和表征.实验结果表明,ZnO薄膜的结构和电学性质与合成条件密切相关.并测试了ZnO薄膜的温差电动势,得出薄膜中的载流子浓度越大,温差电动势率越小;ZnO薄膜厚度越大,温差电动势率越小.本文对其结果进行了理论分析。

关键词： ZnO薄膜 直流磁控溅射 温差电动势率 载流子浓度 薄膜结构 电学性质

作者: 李丽 方亮 廖克俊 刘高斌 杨丰帆 付光宗

作者单位: 重庆大学应用物理系,重庆,400044

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国真空学会第六届全国会员代表大会

会议地点: 杭州

会议语种:中文

页码: 86-89

在线出版日期: 2004-11-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）