显像管残余气体分析及离子轰击研究

摘要：

显像管中的残余气体是影响显像管质量和寿命的重要因素,通过四极质谱残余气体分析系统,可以对显像管中的残余气体进行有效的分析,对带消气剂的真空器件,本底要考虑扣除消气剂作用的影响.在此基础上可以进行残余气体离子轰击的计算机模拟研究,并对显像管电子枪进行优化设计。

关键词： 显像管 残余气体分析 四极质谱 离子轰击 消气剂 计算机模拟

作者: 张晓兵 蒋峻 毛福明 雷威

作者单位: 东南大学电子工程系,南京,210096 华飞彩色显示系统有限公司电子枪厂,南京,210028

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国真空学会第六届全国会员代表大会

会议地点: 杭州

会议语种:中文

页码: 115-117

在线出版日期: 2004-11-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）