采用磁控溅射制备高精度CrSi2薄膜电阻技术研究

摘要：

本文通过对溅射过程中各种条件的选择介绍了如何制备高精度的CrSi2电阻薄膜的方法.同时简要的介绍了电阻网络的设计方法.

关键词： 磁控溅射 CrSi2薄膜 电阻网络

作者: 崔伟 张峰

作者单位: 中电科技集团电子第二十四所;军用模拟集成电路国防科技重点实验室,重庆,南坪,400060 中电科技集团电子第二十四所

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十四届全国半导体集成电路、硅材料学术年会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 378-380

在线出版日期: 2005-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）