一种用于减少由DHF引起硅片表面金属沉积的方法

摘要：

本文研究了DHF溶液中金属Cu在硅片表面的沉积情况和几种特选的螯合剂在DHF中的应用.GFAAS的测试结果表明:DHF溶液中加入少量螯合剂,就可以使硅片表面的金属Cu的沉积量显著减少,减少的效果取决于螯合剂与金属的螯合能力.

关键词： DHF 螯合剂 硅片 金属沉积 金属Cu

作者: 张西慧 刘玉岭

作者单位: 河北工业大学化工学院应用化学系,天津,300130;河北工业大学微电子研究所 河北工业大学微电子研究所

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十四届全国半导体集成电路、硅材料学术年会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 114-116

在线出版日期: 2005-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）