氢化钠米硅薄膜制备工艺对力学性质的影响

摘要：

由于薄膜材料在工业中的广泛应用和MEMS的深入发展,薄膜材料的各种力学性能就显得非常重要.本文以等离子增强化学气相沉积法(Plasma-EnhancedChemicalVaporDeposition)制备的氢化钠米硅(nc-Si:H)薄膜为例,用纳米压痕法研究了其不同的制备工艺参数对力学性质的影响。

关键词： 氢化钠米硅薄膜 制备工艺 力学性质 等离子增强 化学气相沉积法

作者: 毋二省 王金良 张泰华

作者单位: 北京航空航天大学理学院物理系,北京,100083 中国科学院力学研究所非线性力学国家重点实验室,北京,100080

会议类型: 国内会议

会议名称: 2005年全国材料科学与工程学术会议

会议地点: 辽宁锦州

会议语种:中文

页码: 202-203

在线出版日期: 2005-09-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）